第3316章 捡漏并不是那么的容易二

于是,很多历史的真相,都在这些戏说之中被扭曲成了面目全非,以至于在穿越到这一世的时候,赵长安还天真的以为,要不是林博士首先提出来的这个技术,就不会出现后来的浸润式光刻机。

完全模糊了在ASML身后,汇聚了几乎整个欧美最简短的半导体以及相关产业,用了两年多的时间,花费上百亿美元的巨大投入。

赵长安之所以纠结这一点,是因为当他开始推翻了这个戏说以后,就震惊的发现,很多的事情,真实的情况要远远比他想象的更加的精密真实和冷血残酷。

只有正视事实,才能逆境反超,而不是夜郎自大的自欺欺人。

他敢说既然自己能够想得到光波在不同介质之间的波长变化,那么这层反推的窗户纸,用不了多久,甚至很有可能现在就已经有人能够想得到。

然而想得到归想得到,怎么在液体之中实现有效的波长转换,以及诸多的技术和设计难题依然存在,想要真正的去做,则是要集中世界在光学电子化工机械轴承等很多领域最顶尖的技术人员和企业,投资几十甚至几百亿美元。

而且这还不能保证这条路能够成功,至少在目前技术和科技水平的条件下,能够一关关的攻克最终实现技术完成,进行足够良品率的量产。

这里面无论是天量的资金,大量的尖端技术人员和设备,材料,都不是随随便便一家企业所能拥有的能力。

然而对于Sematech联盟将要启动对的正式研发,赵长安这时候已经可以肯定。

目前世界半导体尖端产业,主要集中在东洋,其次是欧美。

而在光刻机领域,东洋更是有着绝对的话语权,不过Nikon和Canon疯了才会自己打断自己的腿,主动放弃157nmDUV氮气干介质光刻机的研发。

然而对于ASML来说,既然Sematech联盟的目的是在当年仙童独霸世界半导体市场,然后被东洋不动声色的夺走这个桂冠以后,现在想要再一次重新拿回这个荣光。

那么跟在Nikon和Canon的屁股后面,也有样学样的投资几十上百亿美元的资金去研发157nmDUV氮气干介质光刻机,才是真的疯了。

那么在现今的技术积累和条件下,想要绕开157nmDUV氮气干介质光刻机的研发,那么唯一在技术上允许的路就只有浸润式光刻机。

Sematech联盟有资金,有技术,有足够的尖端人才储备,无论能不能成功,他们肯定都会去做。

对此,赵长安现在已经明悟的觉得毫无悬念。